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均匀相位掩模光栅  

均匀相位掩模光栅
相位掩膜光栅是通过光栅中晶格形状和晶体表面倾斜斜角在定位晶格上刻蚀出自身相位特征的特殊构造而形成。
 西南东北华中 Tina
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 华东西北 Daisy Lee
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产品型号 3
货号 操作 名称
C80030708  8-10周    1526nm 均匀光栅相位掩模   [PDF] 波长:1526nm; 光栅周期:1054.3 nm; 光栅尺寸:10 mm x 10 mm 
C80030707  8-10周    1538nm 均匀光栅相位掩模   [PDF] 波长:1538nm; 光栅周期:1062.8 nm; 光栅尺寸:10 mm x 10 mm 
C80030706  8-10周    1550nm 均匀光栅相位掩模   [PDF] 波长:1550nm; 光栅周期:1071.2 nm; 光栅尺寸为:25 mm x 10 mm 
总览

相位掩膜光栅是通过光栅中晶格形状和晶体表面倾斜斜角在定位晶格上刻蚀出自身相位特征的特殊构造而形成。

通用参数

参数

指标

波长

1526nm

1538nm

1550nm

光栅周期

1054.3 nm

1062.8nm

1071.2 nm

光栅周期精度和均匀性

+/- 0.01 nm

+/- 0.01 nm

+/- 0.01 nm

光栅尺寸

10 mm x 10 mm

10 mm x 10 mm

25 mm x 10 mm

基板尺寸

30 mm x 25 mm x 2 mm

30 mm x 25 mm x 2 mm

30 mm x 25 mm x 2 mm

针对248nm非偏振照明进行了优化











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