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MCML-100/MCML-120A SERIES 无掩模数字光刻机 Digital Maskless Aligner  2022-01-26  

产品特点

采用数字微镜 (DMD) 的无掩模扫描式光刻机,365nm波长

直接从数字图形生成光刻图案,免去制作掩模板的中间过程,支持直接读取GDSII和BMP文件

全自动化的对焦和套刻,易于使用

晶圆连续运动配合DMD动态曝光,无拼接问题。全幅面绝对定位精度0.1um

套刻精度: 0.2um

500 nm / 1 um分辨率,100mm x 100mm最大幅面(4~6寸晶圆),满幅面曝光时间5~30分钟

500um最小线宽

可灰度曝光(128阶)

尺寸小巧,可配合专用循环装置产生内部洁净空间

产品型号
纵向   横向
型号 货号 操作 名称
MCML-120A H80050011 无掩模数字光刻机 MCML-120A   [PDF] 波长 365nm 最大帧 100mm x 100mm 分辨率 500nm 灰度光刻 128 levels 最大曝光量 2000mJ/cm2 对准精度 <100nm 场曲率 < 1 um 速度 2.5mm2 /sec 输入文件 BMP, GDSII Z级精度 <1 um 环境 20~25℃ 8-10周
MCML-110A H80050012 无掩模数字光刻机 MCML-110A   [PDF] 波长 365nm 最大帧 100mm x 100mm 分辨率 1.0um 灰度光刻 64 levels 最大曝光量 500mJ/cm2 对准精度 <200nm 场曲率 < 1 um 速度 5mm2 /sec 输入文件 BMP, GDSII Z级精度 <1 um 环境 20~25℃ 8-10周
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通用参数

应用

微流控、生物芯片、MEMS、功率器件、LED等试制加工

带有2.5D图案的微光学元件,衍射光器件制作

 教学、科研

 

参数


MCML-110A

MCML-120A

Wavelength 波长

365nm

365nm

Max. frame 最大帧

100mm x 100mm

100mm x 100mm

Resolution 分辨率

1.0um

500nm

Grayscale lithography

灰度光刻

64 levels

128 levels

Max exposure

最大曝光量

500mJ/cm2

2000mJ/cm2

Alignment accuracy

对准精度

<200nm

<100nm

field curvature

场曲率

< 1 um

< 1 um

Speed

速度

5mm2 /sec

2.5mm2 /sec

Input file

输入文件

BMP, GDSII

BMP, GDSII

Z level accuracy

Z级精度

<1 um

<1 um

Environment

环境

20~25℃

20~25℃

 

样品





(SU8-2002, 2um胶厚,2寸硅基底)











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